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一台具備4個操作位點、提(tí)供安全(quán)、準確地加熱、實時冷卻、軟件控製和(hé)數據記錄的24小時/7天無人(rén)值守的自動化化學(xué)儀器。
一台儀器,無限可能
4個單獨操作位點 | 磁力(lì)&機械攪(jiǎo)拌 | 2ml~400ml |
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兼具加熱(rè)、冷卻功能 每個位點可以單獨操作 | 標配磁(cí)力攪拌功能 可選(xuǎn)配強勁的Mya頂置式機械攪拌器(qì) | 兼容**的(de)反應瓶樣式和體積 |
自動化&數據記(jì)錄 | -30~180℃ | 控製第3方設備(bèi) |
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軟件控製 進行24小時/7天無人值守的(de)化學實驗 | 模塊控溫、樣品控溫 相鄰位點間溫差可達(dá)200℃ | 電腦版軟件(jiàn)可控製:注射泵、蠕動(dòng)泵、 pH計、真空泵等多(duō)種第3方設備 |
靈活多用 | 更安全、更清潔、更環保、更高效 | |
4個單獨操作位點,標(biāo)配加熱、實時冷卻功能 緊湊型設計(jì),適用於多種實驗應用 兼容多種多樣尺寸和形狀(zhuàng)的反應容器 程序(xù)化控製您的實驗,實時自動記錄實驗數據(jù) 準確地溫度控製 磁力攪拌,機械攪拌 | 取代低效、雜亂和不安全的油浴、幹冰浴 更加節省實驗室空間 兼容第3方設備:天平、泵和pH計等 軟件控製,提高安全性(xìng),減少人為錯誤 24小時/7天無人值守(shǒu)運行,提高效率(lǜ) |
主要特點
![]() | 歧管型 或 回流(liú)型 機頭
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磁力攪拌 或 機械攪拌
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![]() | 可選多種多樣(yàng)尺寸和形狀的(de)反應容器 從(cóng)2ml~400ml,樣品瓶、試管、圓底燒瓶和過程釜體
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Mya 4控(kòng)製(zhì)選項 24小時/7天無人(rén)值守地進行您的實驗,可選的(de)操作(zuò)係統:
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根據您的需(xū)求配置Mya 4 您可以靈活地配(pèi)置(zhì)Mya 4的各類配件,用以適配您的各類實驗
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工藝套裝 | 小試套裝 | 其他配置 |
配置:歧管式機頭 過程釜(fǔ)體 | 配置:回流式機頭(tóu) 圓底燒(shāo)瓶 | 配(pèi)置: 樣(yàng)品瓶和試管 |
靈活多用(yòng),適用於從小試研發(fā)到工(gōng)藝開(kāi)發的眾多實驗應用 |
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小結 | |
4個單獨操作(zuò)位點 | ——可同時使用1,2,3或4個位點 ——平行操(cāo)作4個位點,或由多個使用者分別單獨操 |
準確地溫度控製 | ——溫度控製(zhì)範圍:-30~180℃ ——相鄰位(wèi)點間溫差可(kě)達200℃ ——每個(gè)位點的溫度單獨控製 ——可選擇控製模塊溫(wēn)度或樣品溫度 |
使用自來水或冷(lěng)水機 | ——Mya 4使用先(xiān)進(jìn)的半導體製冷技術,可快速製冷至-30℃ ——半導(dǎo)體芯片需要自來水或冷水機來帶走(zǒu)熱(rè)端熱量,以持續(xù)製冷 冷卻源 自(zì)來水(15℃) 冷水機(5℃) ***模塊溫度 -25℃ -35℃ ***樣品溫度 -20℃ -25℃ |
磁力攪(jiǎo)拌或機械攪拌 | ——標配磁力攪拌功能,轉速範圍:100~1000rpm ——可選配Mya頂置式機械攪拌(bàn)器,轉速範圍:100~1000rpm ——每個位點的轉速單(dān)獨控製 ——相鄰(lín)位點可分別使(shǐ)用磁力攪(jiǎo)拌或機(jī)械攪拌,互(hù)不影響 |
一台具備4個操作(zuò)位點、提供(gòng)安全、準確地加熱、實時(shí)冷(lěng)卻、軟件(jiàn)控製和數據記錄的(de)24小時/7天無人值守的自動化化學儀器。
一台儀器(qì),無限可能
4個單獨操作位點 | 磁力(lì)&機械攪拌 | 2ml~400ml |
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兼具加熱、冷卻功能 每個(gè)位點可以單獨操(cāo)作(zuò) | 標配磁力攪拌功能 可選配強勁的(de)Mya頂置式機械攪拌器(qì) | 兼容**的反(fǎn)應瓶樣式和體積 |
自動化&數(shù)據記錄(lù) | -30~180℃ | 控製第3方設備 |
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軟件控製 進行24小時/7天無人值守(shǒu)的化學實驗 | 模塊控溫(wēn)、樣品控溫 相鄰位點間溫差可達200℃ | 電腦版軟件可控製:注射泵、蠕動泵、 pH計、真空(kōng)泵等多種第3方設備 |
靈活多用 | 更安全、更清潔、更環保、更高效 | |
4個單獨操作位點,標配加熱、實時冷卻(què)功能 緊湊型設(shè)計,適用於多(duō)種實驗應用 兼容多種多樣尺寸和形狀的反應容器 程序化控製您的實驗,實時自動記錄實驗數(shù)據 準確地溫度(dù)控製 磁力攪拌,機械攪拌(bàn) | 取代(dài)低效、雜亂和不安全的油浴、幹(gàn)冰浴 更加節省實驗室空間 兼容第3方設備:天平(píng)、泵和pH計等(děng) 軟件(jiàn)控製,提高安全性,減(jiǎn)少人為錯誤 24小時/7天無人值守運(yùn)行,提高效率 |
主要特點
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磁力攪拌 或 機械攪拌
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![]() | 可選多種多樣(yàng)尺寸和形狀的反應容器 從2ml~400ml,樣品瓶、試管、圓(yuán)底燒瓶和過程釜體
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Mya 4控製選項 24小時/7天無人(rén)值守地進行您(nín)的實驗,可選的(de)操作係統:
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根據您的需求配置Mya 4 您可以靈活地配置Mya 4的各類配件,用以適配您的各類實驗
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工藝套裝(zhuāng) | 小試套裝 | 其(qí)他配置 |
配置(zhì):歧管式機頭(tóu) 過程釜體 | 配置:回流式機頭 圓底燒瓶(píng) | 配置: 樣品瓶和試管 |
靈活多用,適用於(yú)從小試研發到工藝開發(fā)的眾多實驗應用 |
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小結 | |
4個單獨操作位點 | ——可同時使(shǐ)用1,2,3或4個位點 ——平行操作4個(gè)位點(diǎn),或由多個使用者分別單獨(dú)操(cāo) |
準確地溫度控製(zhì) | ——溫度控製範圍:-30~180℃ ——相鄰位(wèi)點間溫差可達200℃ ——每個位點的溫度單獨控製 ——可選擇控製模(mó)塊溫度或樣品溫度 |
使用自來(lái)水或冷水(shuǐ)機 | ——Mya 4使用先進(jìn)的半導體製(zhì)冷技術,可快速(sù)製冷至-30℃ ——半導體芯片需要自來水或冷水(shuǐ)機來帶走熱端熱量,以持續製冷 冷卻源 自來水(15℃) 冷水機(5℃) ***模(mó)塊溫度 -25℃ -35℃ ***樣品溫度 -20℃ -25℃ |
磁力攪(jiǎo)拌或機(jī)械攪拌 | ——標配磁力攪拌功能,轉速(sù)範圍:100~1000rpm ——可選配Mya頂置式機械攪拌器(qì),轉速(sù)範圍:100~1000rpm ——每個位點的(de)轉速單獨控製(zhì) ——相鄰位點可分別使用(yòng)磁力攪拌(bàn)或機械攪拌,互不影響 |