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產(chǎn)品中(zhōng)心
ACQUITY Arc係統

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ACQUITY Arc係統是一款現(xiàn)代化的四元LC係統,通用性和穩定性俱佳,一方麵填補了HPLC與UHPLC之間的(de)技(jì)術(shù)空白,另一方麵又能繼續(xù)支持經過驗證的分析(xī)方法,是需(xū)要使用既有方法進行分析的科學家的理想之選(xuǎn)。
產品詳情

隻需輕(qīng)撥開關,即可在HPLC和UHPLC方法之間輕鬆轉換。

ACQUITY Arc係統是一款現代化的(de)四元LC係統,通用(yòng)性和穩定性俱佳,一方麵填補了HPLC與UHPLC之間(jiān)的技術空白,另一方(fāng)麵(miàn)又(yòu)能繼續支持經過驗(yàn)證的分析方(fāng)法,是需(xū)要使用既有(yǒu)方法進行分析的科學家的理想之選。

  • 能夠在同一台配備(bèi)合規硬件和軟件的(de)儀器上實現(xiàn)HPLC和UHPLC分離

  • 利用2.x μm顆(kē)粒色譜柱提高方法的色譜性能

  • 省去了手動配製這種繁瑣且(qiě)容易出錯的工作,取而代之的是基於(yú)Auto●Blend Plus技術的按需即時混合流動相

  • 能(néng)夠配合(hé)雙流路和智能梯度起點調整係統間的延遲體積(jī)差異,實現跨係統重現(xiàn)



規格

操作壓力上限9500 psi
pH範圍*1~12.5
操作流速範(fàn)圍最高5 mL/min
樣(yàng)品(pǐn)流路不鏽鋼
樣品殘留≤0.002%(咖啡因),在紫外(wài)條件下
樣品室4~40℃
泵選件四元係統
溶劑平衡被動和主動預加熱
色譜柱追蹤使用eCord技術管理色譜(pǔ)柱信息,追蹤並存檔(dàng)色譜柱使用曆(lì)史
色譜柱容量最多15根(gēn)柱長150 mm、內徑高達4.6 mm的色譜柱
樣品容量上限最多20個樣品板(配備(bèi)樣品組織管理器)
檢測器選項

TUV檢測器

PDA檢測器

FLR檢測器

RI檢測器

ELS檢(jiǎn)測器

EC檢測器

外部控製Empower軟件

MassLynx軟(ruǎn)件

物(wù)理規格

(QSM-R或BSM-R、SM-FTN-R、30cm CH)

寬度:34.3 cm(13.5英寸)

高度:71.1 cm(28.0英寸)

深度:71.2 cm(28.0英(yīng)寸)


概述

  • 隻需輕撥開關,即可實現HPLC到UHPLC的轉換 - Multi-flow path技術使您能夠為色譜(pǔ)柱分離選擇理想的延遲體積(jī),從而實現HPLC和UHPLC運行模式間的(de)輕鬆切換。

  • 簡化您的(de)日常設置 - 使用(yòng)Empower 3軟(ruǎn)件實現係統日常啟動的全麵(miàn)自動化,包(bāo)括(kuò)係統灌注和平(píng)衡。使用ACQUITY控製台簡單、直觀的界麵,在單一界麵上(shàng)獲得所有係統組件的實(shí)時信息。

  • 流動相製備速度更快,重現性更優秀 - Auto●Blend Plus技術使用純溶劑在線製備pH緩衝溶液,從而在縮短製備流動(dòng)相(xiàng)所需時間(jiān)的(de)同時提高製備工作的日間重現性。 

  • 盡可能減(jiǎn)少殘留 – 采(cǎi)用先進的流通針式設計,在運行過程(chéng)中持續衝洗進樣針,實現≤0.002%的超低殘留。 

  • 實現靈活、穩定的方法(fǎ)開發 - 提供(gòng)多種色譜柱管理器選件,最多可容納15根色譜柱(zhù),支持柱長在(zài)50 mm~300 mm範圍內的色(sè)譜柱,控溫範圍4 °C~90 °C。可(kě)選的集成式色譜柱選擇閥可自動完成快速色譜柱切換(huàn)。

  • 保障(zhàng)方法轉換所(suǒ)需穩定性 - 集成式主動預加熱(rè)選件可提供穩定、一致的溫(wēn)度管理,確保實驗室之間(jiān)的方法重現性。智能梯度起點,在從另一套LC係(xì)統(tǒng)轉換方(fāng)法時,可輕鬆根據係統體積差異進行調整,而不改變方法梯(tī)度表。 

推薦用途:在實現色譜技術升級的同時,仍(réng)能(néng)夠運行已經過驗證的傳統方法(fǎ)。


高度重現既有方(fāng)法

ACQUITY Arc係統可以無縫且有效(xiào)地轉換、調整或改進來自任(rèn)何LC平台的方(fāng)法,不會對方法完整(zhěng)性產生影響,也無需對經過驗證的梯度表做出(chū)任何更改。 

ACQUITY Arc采用獨(dú)特的Arc Multi-Flow Path技術和智能(néng)梯度起點,可彌補(bǔ)係統間(jiān)的差(chà)異,重現您現有的HPLC方法。這些創新功能可以無縫重現您現有的色譜結果,以滿足您的驗收標準,無(wú)需對經過驗證的梯度表做出任何更改。


隻需輕撥開關,即可實現HPLC到UHPLC的轉換

ACQUITY Arc係統的Multi-flow path技術使您能夠為色譜柱分離選擇理想的延遲體(tǐ)積,從而實現HPLC和UHPLC運行(háng)模式間的輕鬆切換。ACQUITY Arc係統的可靠性和穩定性可確保產品的一致性以及法規依從(cóng)性,同時盡可能減少停機時間並提高(gāo)效率。

ACQUITY Arc係統兼顧了出色的係統擴散特性和高效(xiào)快速的(de)2.x µm UHPLC分(fèn)離以及粒徑較(jiào)大的3.0~5.0 µm顆粒分離(lí),使您的實驗室能夠靈活支持多種LC應用,從而盡可能地提高生產效率。


簡化您的日常設置

ACQUITY Arc係統包含的先進軟件功能可為您(nín)優化實(shí)驗室工作流程。

  • 使用Empower 3軟件實現係統日常啟動的全麵自動化,包括係統灌注(zhù)和平衡。

  • 使用ACQUITY控製台簡單、直觀的界麵,在單一界麵上獲得所有係統組件的實時信息。

  • Auto●Blend Plus技術使用純溶劑在線製備(bèi)pH緩衝溶液,從而大大縮短了製(zhì)備流動相所需時間,同時(shí)提高了製備(bèi)工作的日間重現性。



開發(fā)出經得起時間考驗的方法

您是(shì)否需要開發UV方法的正交檢測方法?我們的LC-MS解決方案就像光電二極管陣列(liè)檢測(cè)器方法一樣簡單,能夠有效簡(jiǎn)化方法開發。

ACQUITY Arc係統完全兼容ACQUITY QDa質譜檢測器,使用(yòng)同樣的Empower軟件就能增加係統(tǒng)獲取的信(xìn)息量,為您開發出高效、穩定的方法提供支持。係統會自動匹配定性質譜數據與(yǔ)色譜峰,無一遺漏。

  • 無需進樣標準品即可確認分離得到的峰識別結果

  • 根據分子量信息識別分離中新出現的色譜峰

  • 檢測未分離峰(fēng)並確定色譜峰是否來自同一物質

  • 在改變方法條件時輕鬆追蹤色譜峰


ACQUITY Arc係統

ACQUITY Arc係(xì)統

分(fèn)享(xiǎng)

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ACQUITY Arc係統是(shì)一款現代化的四元LC係統,通用性和穩定性(xìng)俱佳,一方麵填補了HPLC與UHPLC之間的(de)技術空白,另一方麵又能繼續支持(chí)經過驗證的分析方法,是(shì)需要使用既(jì)有方(fāng)法進行(háng)分析的科(kē)學家的(de)理想之選。
產(chǎn)品詳(xiáng)情

隻需輕撥開關,即可在HPLC和UHPLC方法之間輕鬆轉換。

ACQUITY Arc係統是一(yī)款(kuǎn)現代化的四元LC係統,通用性和穩定性俱(jù)佳,一方麵填補了HPLC與UHPLC之間的(de)技術空白,另一方麵又(yòu)能繼續支持經過驗(yàn)證的分析方法,是需要使用既有方法進行分析的科學家的理想之選。

  • 能夠在同一台配備合規硬件(jiàn)和軟件的儀器(qì)上實現HPLC和(hé)UHPLC分離

  • 利用2.x μm顆粒(lì)色譜柱提高方法的色(sè)譜性能

  • 省去了手(shǒu)動配製這種繁瑣且容易出錯的工作,取而代之的是基(jī)於Auto●Blend Plus技術的按需即時混合流動相

  • 能夠配合雙流路和(hé)智能梯(tī)度起點調整係統間的延遲體積差異,實現跨係統重現



規格

操作壓力上限9500 psi
pH範圍*1~12.5
操作流速範圍最高5 mL/min
樣品流路不鏽鋼
樣品殘留≤0.002%(咖啡因),在紫外條件下
樣品室4~40℃
泵選件四(sì)元係統
溶劑平衡被動和主動預加熱
色譜柱追蹤使用eCord技術(shù)管理色譜柱(zhù)信(xìn)息,追蹤並存檔色譜柱(zhù)使用曆史
色譜柱容量最多15根柱(zhù)長150 mm、內徑高達4.6 mm的色譜柱
樣品容量上限最多20個樣品板(配備樣品組(zǔ)織管理器)
檢測(cè)器選(xuǎn)項(xiàng)

TUV檢測器

PDA檢測器

FLR檢測器

RI檢測器

ELS檢測器

EC檢測(cè)器

外部(bù)控製Empower軟件

MassLynx軟件

物理規(guī)格

(QSM-R或BSM-R、SM-FTN-R、30cm CH)

寬度(dù):34.3 cm(13.5英(yīng)寸)

高度:71.1 cm(28.0英寸)

深度:71.2 cm(28.0英寸)


概(gài)述(shù)

  • 隻需輕撥開關,即可實現HPLC到UHPLC的(de)轉換 - Multi-flow path技術使您能夠為色(sè)譜柱分離選擇理想的延遲體積,從而實現HPLC和(hé)UHPLC運行模式間的輕鬆切換。

  • 簡化您的日常設置 - 使用Empower 3軟件(jiàn)實(shí)現係統日常啟動的全麵自動化,包括係統(tǒng)灌注和平衡。使用ACQUITY控製台簡單、直觀的界麵,在單一界麵上(shàng)獲得所有係統組件的實時信息。

  • 流動相製備速度更(gèng)快,重現性更優秀 - Auto●Blend Plus技術(shù)使(shǐ)用純(chún)溶劑在線製備pH緩(huǎn)衝溶液,從而在縮短製備流動相所需時(shí)間的同時提高製備工作的日間重(chóng)現性。 

  • 盡可能減少(shǎo)殘留 – 采用先進的流通針式設計,在運行過程中持續衝洗進樣針,實現≤0.002%的超低殘留。 

  • 實現靈活、穩定的(de)方法開發 - 提供多種色譜柱(zhù)管理器選件,最多可容納15根色譜柱,支持柱(zhù)長在50 mm~300 mm範圍(wéi)內的色譜柱,控溫範圍4 °C~90 °C。可選(xuǎn)的(de)集成式色譜柱選擇閥可自動完成快速色譜(pǔ)柱切換(huàn)。

  • 保(bǎo)障方法轉換所需穩定性 - 集成式主動預加熱選件可提供穩定、一致的溫度管理,確保實驗室之間的方法重現性。智能梯度起點,在從另一套LC係統轉換方法時,可輕鬆根據係統體積差異進行調整,而不改變方法梯度表。 

推薦用途(tú):在實現色譜技術升級的同時,仍能夠運行已(yǐ)經過驗證的傳統方法。


高度重現既有方法

ACQUITY Arc係統可以無縫且有效地轉換、調整或改進來自任何LC平台的方(fāng)法,不會對方法完整性產生影(yǐng)響,也無需(xū)對經(jīng)過(guò)驗證的梯度表做出任(rèn)何更改。 

ACQUITY Arc采用獨特(tè)的Arc Multi-Flow Path技術和智能(néng)梯度起點,可彌補係統間(jiān)的差異,重現(xiàn)您現(xiàn)有的HPLC方法。這些創新功能可以無縫重現您現有的色譜結果(guǒ),以滿足您(nín)的(de)驗收標準,無需對經過驗證的梯度表做出任何更改(gǎi)。


隻需(xū)輕撥(bō)開關,即可實現HPLC到UHPLC的轉換

ACQUITY Arc係(xì)統的Multi-flow path技術(shù)使(shǐ)您能夠為色譜柱分(fèn)離(lí)選擇理想的延遲體積,從而實現HPLC和UHPLC運(yùn)行模式間的輕鬆(sōng)切換。ACQUITY Arc係統的可靠性和穩定性可(kě)確保產品(pǐn)的一致性以及法規依從性(xìng),同時盡可能減少停機時間並提高效率(lǜ)。

ACQUITY Arc係統兼顧了出色的係(xì)統擴散特性和高效快速的2.x µm UHPLC分(fèn)離以及粒(lì)徑較大的(de)3.0~5.0 µm顆粒(lì)分離,使您(nín)的實驗室能夠靈活支持多(duō)種LC應用,從而盡可(kě)能地提高生(shēng)產效率。


簡化您的日常設(shè)置

ACQUITY Arc係統包含的先(xiān)進軟件功能可為您優化實驗室工作(zuò)流程。

  • 使用(yòng)Empower 3軟件(jiàn)實現係統日常啟(qǐ)動的全麵自(zì)動化,包括係統灌注和平(píng)衡。

  • 使用(yòng)ACQUITY控製台簡單、直觀的界麵,在(zài)單一(yī)界(jiè)麵上獲(huò)得所有係統組件的實時信息。

  • Auto●Blend Plus技術使用純溶劑在線製備pH緩衝溶液,從而大大縮短了製備流動相所需時(shí)間,同時提高(gāo)了(le)製備工作的日間重現性。



開發出經(jīng)得起時間考驗的方法

您是否需要開發UV方法的正(zhèng)交檢測方法?我們的LC-MS解決(jué)方案就像光電二極管陣列檢測器方法一樣簡單,能夠有效(xiào)簡化方(fāng)法開(kāi)發。

ACQUITY Arc係統完全兼容ACQUITY QDa質譜檢(jiǎn)測器,使(shǐ)用同樣的Empower軟件就能(néng)增加係統獲取的信息(xī)量,為(wéi)您開發(fā)出高效、穩定的方法提供支持。係統會自動匹配定性質譜數據與色譜峰,無(wú)一遺漏。

  • 無需進(jìn)樣標準品即可確認分離得到的峰識別結果

  • 根據分(fèn)子量信息識別(bié)分離(lí)中新出現(xiàn)的色譜峰(fēng)

  • 檢測(cè)未分離(lí)峰並確定色譜峰是否來自(zì)同(tóng)一物質(zhì)

  • 在改(gǎi)變方法條件時輕鬆追蹤色譜峰


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